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光學保護膜涂布機

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光學保護膜涂布機

該設備采用瑞士技術,適用于標簽材料、光學膜、離型類產品等多個行業。設備生產速度450m/min,采用五輥涂布頭涂布干量可達0.1gsm,可配置氣浮式烘箱,適用于溶劑/無溶劑生產工藝,滿足高級產品對生產工藝的要求。
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設備特點

Equipment Characteristics

 

該設備采用瑞士技術,適用于標簽材料、光學膜、離型類產品等多個行業。設備生產速度450m/min,采用五輥涂布頭涂布干量可達0.1gsm,可配置氣浮式烘箱,適用于溶劑/無溶劑生產工藝,滿足高級產品對生產工藝的要求。

 

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1.薄膜在烘箱內的張力控制在80-200N/m
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3.烘箱內部溫度、氣流均勻分布
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2.密封腔刮刀凹版涂布頭,采用特殊的網穴結構設計,解決大涂布量的轉移,濕涂布量可達到50g/m2.
3.三輥逆向涂布頭,保證涂層厚度及涂層的均勻性。
4.真空吸附輥/床,有效地隔斷涂頭與烘箱之間的張力,保證材料在超長烘箱內部不漂移。
5.烘箱結構優化設計,采用干燥系統仿真軟件進行生產現場模擬數據分析利用熱能。
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 氣浮式烘箱
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2.烘箱內部溫度、氣流均勻分布
3.在低張力情況下,薄膜保持平穩運行,無任何搖曳現象
4.任何速度下,薄膜保持平穩運行,無任何搖曳現象
5.低能耗

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